从含铜料的回收铜的环保方法
铜是一种常用的有色金属。铜用途广泛，电力工业，电子工业，日常生活均需要铜。从矿石中提取铜，成本高，流程长。从含铜的废液，废料（含镀层及混合料）提取铜，具污染少，效益高，同时又能净化其他原料，具有多赢的效果。
浸出—萃取—电积法回收铜已是成熟的工艺，但其投资高，萃取剂的损耗大，控制复杂，对于小型回收商来说，是可望不可及的工艺。
浸出—电解法回收废料（液）中的铜，具有投资小，快速，药液循环，且自动化操作等优点。同时，此法回收金属符合环保及资源循环再生的世界发展潮流。
从浸出液的酸碱性来分，铜的浸出液可分为酸性浸出液及氨性浸出液两种。
在印刷电路板行业中，铜的蚀刻有三类型。
1.硝酸或硫酸体系。2.氯化铜体系（酸性或氨性）.3.铁盐体系（硫酸铁或氯化铁）。具体优缺点如下：
A.氢氟酸体系（氟化铵+氢氟酸）。以HNO3或H2O2为氧化剂。可达到很高蚀铜速度。但带强酸腐蚀性，毒性很大，现已很少用。 B.硝酸体系：蚀铜快。但缺点多：发热量大。产生大量黄烟（后处理麻烦），硝酸对板材有氧化性，造成板材变色。市场很少使用，多用于覆铜板边角料处理（生产硫酸铜）。
C.硫酸+双氧水，蚀速慢，溶液含铜低，主要用于微蚀刻。
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D.铁盐体系（氯化铁或硫酸铁），氯化铁体系蚀铜的速度快，但废水再生麻烦，硫酸铁体系蚀铜慢，可电解再生。
E.氯化铜体系（含酸性及氨性），蚀铜快，溶液含铜高，是目前印刷线路板行业蚀刻液的主流，但溶液再生麻烦，常用萃取—电积法再生，工艺流程长，控制步骤多，设备贵。且萃取剂常需净化处理，操作麻烦。
E.新型蚀铜液（有酸性及氨性），蚀铜速度可接受，溶液含铜较高，蚀刻时需用氧化剂(双氧水或氧气)调快蚀刻速度。或加长蚀刻工段来补足蚀刻。优点:可在线直接电解再生药水（同时得到电解铜板），此类蚀刻速度与铜含量关系不大。蚀刻速度决定于喷淋及氧化剂(双氧水或氧气)。药水无挥发（酸性）或低挥发（氨性）。 药水原料均为环保材料，对人体无毒，清洗水易处理及再生。为今后蚀刻的主要趋势。在金属回收行业，此为第一选择。 ----------------------------------------------------------
本文重点介绍新型蚀铜液的操作及再生方法。其他蚀刻方法读者可参考其他较专业资料。
A． 酸性蚀铜液：酸性蚀刻原液为无色透明(或微棕色)液体。高浓度的原液对人体有刺激性，应避免吸入。用水稀释后对人体无害。保存方法：阴凉通风处。消防措施：避免接触大量强氧化剂。 酸性蚀铜液配方（体积）：
水 60—80
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蚀铜液原液 20—40
双氧水 蚀铜时分次添加
蚀刻温度：常温至50℃
本蚀刻液可蚀刻至含铜达100---120克/L而不结晶。
注意：1.尽量使用喷淋蚀刻法。 2.可能的话蚀刻段尽量长。
3.在保证蚀刻的情况下尽量少用双氧水（用工业氧气作氧化剂更经济，药液更稳定）。
4.蚀刻后进电解槽前应把双氧水耗掉以降低蚀刻液氧化力。 5.电解槽应有多个，槽与槽间有冷却。 ******电积提铜操作参数：
进液含铜：60—120克/升
出液含铜：20—50克/升（槽与槽间含铜量相差10--20克/升） 温度：＜50℃ 电压：2.0—3.0伏 电流密度：300—600A/m2 稳压或稳流操作：稳压
注意：1.电解后蚀刻液含微量H2O2（阳极产生），需装排气管。 2.用串联法电积提铜时，电解槽间电解液应冷却。
3.建议串联法提铜时，单个电源拖带电解槽个数不大于3个。 4.此法电解提铜效率极高，对于喷淋-浸泡型提铜（如覆铜板
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边料回收铜），效果更佳。 5.此项技术在高速发展中。 酸性浸出—电积提取铜常见问题及处理 1.电解液颜色浅，电解出的铜呈粉状 原因1：电解液含铜低
处理：电解液多溶铜以增加含铜量。
原因2：电解液酸含量低 处理：补铜槽补加适量酸。
原因3：电解液含杂质高
处理：活性炭（离子交换树脂）过滤处理。 2.电解槽排气大，出铜少 原因1：电解液含铁离子过高
处理：活性炭（离子交换树脂）过滤处理。
原因2：电解液温度高
处理：冷却开关加大，加快循环量。
B.氨性蚀铜液：本技术采用新型蚀铜盐蚀刻铜，本蚀铜盐不含氯化铵等含氯物料，电解时无氯气产生，减少电解时铜的返溶。使蚀铜液可直接电解提铜。不足之处：蚀铜时需氧气（双氧水）。双氧水含量低时，蚀铜较慢。氨性蚀铜液最大优点可在铜包铝及铜包钢中浸出铜，因此从铝，铁等的废料中回收铜，此法较好。
氨性蚀铜液子液配方：
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蚀铜盐 50—80克/升
碳酸氢铵 20—50克/升 蚀铜盐+碳酸氢铵=100—150克/升 氨水 60—150ml/L（20%氨水） 浸出—电解用氨性含铜液电解参数：
进液含铜 60—100克/升
出铜含液 30—60克/升
电压 3.0—4.0伏（稳压操作） 电流密度 300—600A/m2 温度 ＜50℃
注意：1.使用多槽串联电解提铜，电解槽间电解液应冷却。 2.本电解工艺有氨气挥发，应给予回收及处理。 氨性浸出—电积提取铜常见问题及处理 1.电解液颜色浅，电解出的铜呈粉状 原因1：电解液含铜低 处理：增大电解液含铜量。
原因2：电解液溶铜盐含量低 处理：补铜槽补加适溶铜盐。
原因3：电解液含碳铵高 处理：补加适量溶铜盐 2.电解槽氨气大，出铜少
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原因1：电解液含氨水过高 处理：补加是适量溶铜盐
原因2：电解液温度高
处理：冷却开关加大，加快循环量。 ******浸出—电解回收铜工艺流程： 含铜料→浸铜（含铜液）→电解提铜 →铜 ↓ ↓ 余料 再生液 ↓ ↓ 清洗 调节成份 ↓ ↓ 干净料 返回浸铜 生产线按工艺要求分三部分： 1.铜的浸出。 2.过滤及电解提铜。 3电后液成份调节。 铜的浸出 1.浸铜液的选择
浸铜液应溶铜多，溶杂质少。以高铜液电积提铜较好。 浸铜液发挥少，以免损耗及造成环境污染。 浸铜液对电极（阳极）要求低，以降低电解槽造价。
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浸铜液化学性质稳定，在电解过程不会变质。 2.强化浸铜措施： 1.喷淋及搅动浸铜液。
2.外加氧化剂（如氧气或双氧水的加入）。 3.翻动（滚动含铜料）。
4.超声波的使用（此操作可加速5—10倍）。
5.浸出缸应设有废气收集装置，废气送废气处理系统。 浸铜液应尽量提高溶铜量，铜含量越高，电解系统越稳定。 电解提铜：电解提铜系统含过滤缸，电解槽主体，电源三部分。其中过滤缸及电解槽主体可连体。
电解槽的尺寸设计应合理，建议内径以800—980mm，高600—850mm，长度1200—1600mm较合理。
电源采用高频脉冲电解电源。频率应大于30K，主要控制元件进口材料制造。
电压：0—12伏（也可0—15伏） 电流：4000A（小槽2000A） 频率：＞30K
输出铜排计算：1.5安培/平方 输出铜排材质：紫铜排（国标）。 电解槽：
主体材料：PP材料，A级料（白色透明）。
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加强圈：至少两圈，不锈钢（方钢）5*5，外包白色PP。 电解槽的用料及设计需符合要求，可与设计者联系。
电后液（浸铜液）调整：采用自动化控制设计，减少人为控制的麻烦。
氨性退铜液可用于铜包钢及铜包铝的直接电解退铜，直接电解退铜液配方：
蚀铜盐 40—80克/升 碳酸氢铵 20—50克/升 加速剂 10--30克/升 氨水（20%）50—120ml/L 电解液含铜 30—60克/升 稳压或稳流操作：稳压 电压 2.5—4.0伏 电流
PH值 7.5—8.5 温度 ＜40℃
阴极 201不锈钢（或铜板） 阳极 不锈钢（201或304）
直接电解退镀常见问题及处理： 1.电解液颜色浅，电解出的铜呈粉状 原因1：电解液含铜低
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处理：开路补铜（在有氧情况下）及冷却。
原因2：电解液氨水含量低 处理：补铜槽补加适量氨水
原因3：电解液含碳铵高 处理：补加适量溶铜盐 2.电解槽氨气大，出铜少 原因1：电解液含氨水过高 处理：补加适量溶铜盐。
原因2：电解液含铜低。
处理：开路补铜开关加大，加快循环量。 原因3：冷却量过小
处理：增大电解液循环冷却量。
原则：1.直接电解槽需支路循环补铜及冷却。 2.电解槽液含铜量大于30克/升. 与本文配套文章：
1.《氨性电解退铜流程图（1）》 2. 《氨性电解退铜流程图（2）》 3. 《浸出—电解回收金属生产线（1）》 4. 《浸出—电解回收金属生产线（2）》 5. 《浸出—电解回收金属生产线（3）》 6.《铜电解液的检测及调节》
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可供工艺及设备：
1.铜酸洗（抛光）助剂及钝化（保护）剂及电解再生工艺。 2.退锡助剂D(电解法)，退锡助剂FP（酸洗）。
3．《浸取-电积法提取(回收)金属》已开发成功以下工艺及设备 B1.镀锡铜（铁）浸取锡—电解提取锡工艺，设备。 B2.电子脚浸取锡—电解提取锡工艺，设备。 B3.废线路板电子元件拆解退锡工艺，设备。
B4.镀锡铜针（白铜）酸洗退锡-电解回收锡工艺，设备。 C1.铜包钢（铝）浸取铜—电解提取铜工艺，设备。 C2.废电路板（含烧灰）浸取铜—电解提取铜工艺，设备。 此工艺经数年的研究及试验，本文章数据为实践数据。任何人引用本文章的数据或文章内容需经本人同意。未经本人同意而私自引用本文章的数据或文章内容视为侵占版权，本人保留追究侵占版权者的法律责任。私自（含片面）使用本文章数据而造成的不良结果由盗用者负全责（成文于公元2015年6月）。
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